碳纳米管晶圆核心工艺平台-苏州烯晶半导体科技有限公司

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碳纳米管晶圆核心工艺平台

开放 · 共创 · 赋能

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平台概述

本平台构建了覆盖碳纳米管器件从工艺开发到测试验证的全链条工程能力。平台集成了完整的前道半导体工艺制程，涵盖光刻、薄膜沉积、刻蚀及清洗等关键环节，并针对碳纳米管材料特性开发了专用工艺模块，可为客户提供从工艺开发到原型制造的全流程技术服务。同时，平台配备了从材料结构分析、表面形貌表征到器件电学性能测试的系统性表征能力，形成从微观结构到宏观性能的一站式精密测试方案，为研发迭代与产品定型构建从材料评估到器件验证的完整数据闭环。

核心优势

专业级研发制造环境

专业级研发制造环境

总面积

1600平方米

洁净等级

200平方米百级与1000平方米千级超高洁净区域，满足半导体工艺的严苛环境要求
覆盖三大核心工艺系统

覆盖三大核心工艺系统

光刻能力

可满足微米、亚微米、0.18微米图形化需求；

镀膜能力

适用于CNT器件的特殊接触金属、定制化的high-k和功函数可调的栅金属沉积等；

刻蚀能力

具备金属刻蚀、氧化物刻蚀、碳纳米管刻蚀和深硅刻蚀等能力。
完备的测试分析能力

完备的测试分析能力

材料表征

可对碳纳米管晶圆的成分、结构、形貌及厚度进行纳米级精度的全面表征

电学测试

可完成器件在多种极端环境下的性能与可靠性测试，满足工业标准

全流程支持

覆盖基础材料、晶圆到成型器件的全流程、全周期性能监测与数据反馈

平台设备

光刻机台
镀膜机台
刻蚀机台
测试机台

紫外光刻机

激光直写系统

深紫外光刻系统

全自动紫外光刻机

原子层沉积系统

等离子体化学气相沉积系统

物理气相沉积系统

电子束镀膜仪

氧等离子体刻蚀机

反应离子刻蚀机

离子束刻蚀机

真空高低温探针台

原子力显微镜

荧光光谱仪

扫描电子显微镜

拉曼光谱仪

半自动探针台

半导体参数测试仪

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